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铜靶通过真空溅射形成膜层,广泛应用于触摸屏、半导体、传感器、电路器件和装饰品等行业的器件镀膜。

元素符号:Cu
纯度:4N+
形状:平面靶; 旋转靶
外观:红铜色金属
典范密度:8.57g/cm?
通例尺寸:平面靶: D500mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

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